MDC8540LMDC6550● GaN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適● 洗浄可能な治具は、SiCコートカーボン、石英等● ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能● ウェット洗浄では消耗の激しい石英もダメージが少なく大量の予備品が不要● 装置導入でサイクルコストの削減に貢献可能● 作業者に負担のかからない安全設計 装置仕様MDC8540LMDC6550装置寸法(mm)W2,100×D4,160×H2,700W1,850×D2,900×H2,400装置重量約 4,500kg約 2,800kg洗浄可能寸法(最大)φ850mmφ650mm洗浄方法(両モデル共通)洗浄ガスとの加熱反応方式MDCシリーズカタログダウンロードMDC8540L ↑MDC6550 ↑