● 最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基盤（試料）にUV照射を行い、表面の有機物を除去し濡れ性を向上させることができます。
● 基盤（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため、厚みのある基盤（試料）を処理することが可能となります。
● オゾン発生型装置はガス導入機構を装備し酸素ガス導入により高濃度のオゾン発生が可能となり、高いクリーニング効果が実現できます。
● 基盤（試料）セット後の処理は自動運転が可能です。
● 紫外線とオゾンが発生するので、洗浄時に蓋が開かないなど各種インターロックを標準装備しています。
卓上型UV照射装置カタログダウンロード
